产品名称：HIS550R-C

封装：TO-39 / TO-5

辐射元件面积：11 mm²

辐射元件发射率：>0.9

辐射元件温度：功率 650 mW时，温度为 600 °C

最大电功率：700 mW

最大电压：4 V

最大电流：175 mA

电阻：21…23 Ω

调制频率：6 Hz

滤镜 / 窗口：氟化钙（粘贴式）

波长范围：2 至 11 µm

填充气体：氮气

产品代码：155746

产品手册下载：

HISbasic-series-technical-note-operating-mode.pdf

Handling-instructions-for-TO-set-ups.pdf

Datasheet-HISbasic-HIS550R-C.pdf

HISbasic 系列：TO39/TO5 封装黑体红外辐射源

HISbasic 系列发射器集成镀金反射镜，可将背面发射的辐射导向正面，以实现最高效率。我们所有发射器在电阻恒定时均能保持极小漂移；英福索（Infrasolid）红外发射器的显著特点是电阻温度系数极低，因此热态电阻与冷态电阻几乎一致，大幅简化了对红外辐射源的电气控制。

英福索红外辐射源属于脉冲式热发射器，具备近黑体发射特性。其基于专利纳米技术与专利高熔点金属发射器结构，所采用的独立式单片辐射元件及纳米结构化发射表面，在诸多应用场景中具备多项优势。

HISbasic 系列核心特性：

脉冲式热黑体红外辐射源，采用工业标准 TO-39/TO-5 封装

专利纳米结构辐射元件，可实现高达 500% 的探测信号提升

辐射元件工作温度较低，仅为 600°C，能显著延长使用寿命

波长范围宽泛，可适配多种应用场景

INFRASOLID® 纳米结构技术：

Infrasolid的专利纳米结构技术，可用于制造极薄且耐热性极强的黑色光学涂层。该技术已应用于我们的热红外光源，同时也适用于光学探测器技术，以及光学测量系统中的杂散光吸收场景。其高吸收特性覆盖的光谱范围广泛，从紫外线（UV）一直延伸至远红外波长。通过光刻技术可对黑色涂层进行结构化处理，从而实现极小尺寸的结构或局部涂黑区域。涂层沉积过程在平面基材上进行；对于塑料等温度敏感型材料，可采用我们的低温黑色涂层工艺进行涂覆。